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        蘇州半導體晶圓等離子清洗機

        簡要描述:蘇州半導體晶圓等離子清洗機原理:通過對工藝氣體施加電場使之電離化成為等離子體。等離子體的“活性"組成包括:離子、電子、原子、自由 活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學反應(yīng)改變樣品表面性質(zhì),從而優(yōu)化材料表面性能,實現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。

        • 產(chǎn)品型號:
        • 廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
        • 更新時間:2025-06-19
        • 訪  問  量:125

        詳細介紹

        品牌晟鼎價格區(qū)間30萬-50萬
        樣品腔尺寸450×450×500mm(寬×高×深)cm控制方式PLC
        功率0-600W氣路標配兩路,可定制
        樣品腔材質(zhì)標配一套,材質(zhì)可選配(鋁材、304不銹鋼)樣品腔容積2層 共6個空間L
        射頻頻率13.56MHzGhz產(chǎn)地類別國產(chǎn)
        應(yīng)用領(lǐng)域能源,鋼鐵/金屬,航空航天,汽車及零部件,綜合

                 

        提高材料的導電性能:等離子清洗后的材料表面,能夠去除表面的雜質(zhì)和氧化物,從而提高材料的導電性能。

        等離子清洗機廣泛應(yīng)用于各個領(lǐng)域,如:

        - 電子行業(yè):提高電子元器件的附著力和導電性能。

        - 汽車制造:提高汽車零部件的耐腐蝕性和附著力。

        - 醫(yī)療器械:提高醫(yī)療器械表面的無菌性和生物相容性。

        - 航空航天:提高航空航天器材的表面性能和耐腐蝕性。

        總之,等離子清洗機是一款非常實用的設(shè)備,能夠大大提高產(chǎn)品的質(zhì)量和性能

        真空等離子主機

        設(shè)備尺寸

        L1000×W900×H1750mm

        重量

        500Kg

        需求電源

        AC380V,50/60Hz,5線,30A

        等離子發(fā)生器規(guī)格

        電源功率

        射頻

         中頻

        0~600W

        0-1000W

        電源頻率

        13.56MHz

        40 KHz

        真空系統(tǒng)

        真空泵

        飛越雙級旋片泵(油泵):60m3/h

        真空管路

        全不銹鋼管路,以及高強度真空波紋管

        材質(zhì)

        鋁合金

        厚度

        25mm

        密封性

        軍工級焊接密封

        腔體內(nèi)部尺寸

        450×450×500mm(寬×高×深)

        電極板有效尺寸

        410×400mm(寬×深)

        可用空間間距

        100mm

        電極板布置方式

        豎直電極板

        工作托盤

        標配一套,材質(zhì)可選配(鋁材、304不銹鋼

        工作空間

        2 6個空間

        工藝氣體

        流量范圍

        0~300SCCM

        工藝氣體氣路

        標配兩路,可定制

        控制系統(tǒng)

        系統(tǒng)控制

        PLC

        交付方式

        7寸觸控屏幕

         

         


            

                      等離子清洗機原理:通過對工藝氣體施加電場使之電離化成為等離子體。等離子體的“活性"組成包括: 離子、電子、原子、自由 活性基團、激發(fā)態(tài)的核素(亞穩(wěn)態(tài))、光子等。等離子處理就是通過利用這些活性組分的性質(zhì)來氧化、還原、裂解、交聯(lián)和聚合等物理和化學反應(yīng)改變樣品表面性質(zhì),從而優(yōu)化材料表面性能,實現(xiàn)清潔、改性、刻蝕等目的。


        蘇州半導體晶圓等離子清洗機

         

               在等離子清洗機中,攝像頭模組被放置在清洗室中,通過等離子體的作用,將模組表面的污垢和有機物分解成無害的氣體和水。由于等離子體的高能量,清洗效果非常明顯,可以將模組表面的污垢和有機物去除,使其恢復原有的光潔度和透明度。同時,等離子清洗機的清洗過程非常快速,可以在短時間內(nèi)完成清洗,提高生產(chǎn)效率。

         廠務(wù)規(guī)格要求

        廠務(wù)規(guī)格要求

        交流電源規(guī)格

        電源:AC380V,50/60Hz,5線,16A

        廠務(wù)排氣

        流量:2.0 m3/min

        廠務(wù)工作氣體要求

        流量:1~10 L/min

        壓力:3~7 kg/cm2

        管徑:6×4 mm

        材質(zhì):PU管

        純度:99.99%以上

        廠務(wù)壓縮空氣要求

        流量:1~10 L/min

        壓力:3~7 kg/cm2

        管徑:8×5 mm

        材質(zhì):PU管

        露點:-40℃以下

        Particle>0.3μm:10Pcs/ft3

          

               除了普通的等離子清洗機外,還有一種寬幅等離子清洗機,可以同時清洗多個攝像頭模組。寬幅等離子清洗機采用連續(xù)清洗的方式,可以在一次清洗中同時清洗多個模組,提高了清洗效率和生產(chǎn)效率。同時,寬幅等離子清洗機還具有自動化控制系統(tǒng),可以實現(xiàn)全自動清洗,減少人工干預(yù),提高清洗質(zhì)量和穩(wěn)定性。


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